先端半導体の中国向け輸出規制を強化

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経済産業省は7月23日、先端半導体分野の23品目を輸出規制の対象に加えた外為法の改正省令を施行する。5月23日に改正を公布、2カ月の周知期間を経て施行するもの。

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バイデン米政権は2022年10月7日、中国への半導体先端技術(14〜16ナノメートル以下のロジック半導体の製造などに必要な装置や技術)の新しい輸出規制を実施すると発表した。軍事開発に欠かせないAIやスーパーコンピューターに使われる先端半導体の輸出を制限、さらに特定の先端半導体を扱う中国企業の工場に対し、米国製の製造装置を販売することも原則禁止する。

2022/10/10 米国、半導体の対中輸出制限を拡大

米国は日本とオランダにも協力を求めていたが、オランダ政府は6月30日、追加の輸出管理規制を9月1日から施行すると発表した。国の外交方針および安全保障政策次第で輸出許可ライセンスを停止することが可能という文言が含まれている。

オランダの大手半導体製造装置メーカーのASMLは、既に輸出制限の対象となっている極端紫外線(EUV)露光装置に加え、深紫外線(DUV)露光装置の出荷に関してもオランダ政府の輸出管理規制の対象となったと述べた。

2018年10月に中国の新興半導体メモリーメーカー、合肥長鑫(イノトロン)がASMLから最先端のEUV露光装置導入に乗り出した。安徽省の合肥市政府が出資する企業で中国政府の意向を反映した動きとみられた。軍事用途の半導体製造に使用される恐れがあるとする米国の圧力を受け、2019年に中国の顧客に対する最新鋭のEUV装置の販売を制限された。
旧式の深紫外線(DUV)露光装置の対中輸出は続けていた。(DUVは波長200nm程度、EUVは13.5nm)

日本は「国際的な安全保障環境が厳しさを増すなか、軍事転用防止目的としてWassenaar Arrangementを補完すもに半導体製造装置関する関係国の最新の輸出管理動向なども総合的に勘案し、特定の貨物及び技術輸出管理の対象に追加する 」こととした。

「高性能な先端半導体、これは軍事的な用途に使用された場合、国際的な平和および安全の維持を妨げる恐れがある」 西村大臣はこのように話し、高性能な半導体の製造装置について輸出管理を強化すると発表した。

2023/4/4 最先端の半導体製造設備の輸出規制強化

米国が成膜設備、日本がコータデベロッパ、オランダが露光装置を規制すれば、ほぼ生産不可能となる。

    

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半導体のサプライチェーンからの中国の締め出しを進める米国に足並みをそろえるもので、23品目を、米国や韓国など友好42カ国・地域向けを除く中国などに輸出するには、輸出時に経産省の審査を受け、経産相の許可が毎回必要となる。これまでは原則として許可は不要だった。先端半導体関連品の中国への輸出は難しくなる。軍事転用の防止が目的だとしている。

審査が簡略化されるのは、Wassenaar Arrangement加盟の米国や韓国、台湾など42カ国・地域(国際輸出管理レジーム参加国一覧表 参照)に限られ、中国は含まれていない。(ロシアは含まれている)

改正概要

国際的な平和及び安全の維持の観点から、高性能な半導体製造装置に関して、輸出管理の対象とするため、当該貨物の仕様等を追加。また、追加する貨物を使用するために設計したプログラムを輸出管理の対象とするため追加する。

【新たに輸出管理の対象となる品目(23品目)】

品目 具体例 メーカー
洗浄(3品目) 真空状態で不純物を除去する洗浄装置 SCREENホールディングス、東京エレクトロンなど
デポジション(成膜)
(11品目)
極端紫外線(EUV)フォトマスク向けの成膜装置 東京エレクトロン、KOKUSAI ELECTRIC、アルバックなど
EUVフォトマスク向けの防護カバー ニコン、三井化学など
アニーリング(熱処理)
(1品目)
リソグラフィ(露光)
(4品目)
フッ化アルゴン(ArF)を使う液浸露光装置   ニコンなど
エッチング(化学的除去)
(3品目)
記憶素子を立体的に積み上げるエッチング装置 東京エレクトロン、日立ハイテクなど
検査(1品目)

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中国はこれらの動きに猛反発しており、対抗措置が心配される。

中国のインターネット規制当局は5月21日、米半導体大手マイクロン・テクノロジーの製品について、ネットワークセキュリティー審査で不合格になったとし、重要インフラ事業者による同社からの調達を禁止すると発表した。

「マイクロンの製品にネットワークセキュリティー上の深刻なリスクがあることが審査で判明した。これは中国の重要情報インフラの供給網に大きな安全上のリスクをもたらし、国家安全保障に影響を及ぼす」としている。

2023/7/6 中国が半導体材料ガリウムなど輸出規制

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